| 主权项 |
1.一种电磁泵浦之气室结构改良，其系包含一电磁装置及一中空气室，气室两外侧一端系各设一相对之橡帽，各橡帽系与一曲柄连结，各曲柄之同一侧系轴枢于气室另一端之外侧面，各曲柄之另一侧系设有磁铁而与电磁装置相对，其改良特征系在于：该气室系区隔为上下两内部空间，液体进口端系设于上内部空间，液体出口端系设于下内部空间，气室两外侧面相对于上、下内部空间处系各设有穿孔区，气室同一外侧面相对于上、下内部空间之两穿孔区系受到所对应之橡帽罩盖，各穿孔区系设有一阀件以启闭各穿孔区之流通，该阀件系具一伞片而可覆盖于所对应之通孔区，该气室两侧相对于上内部空间之阀件伞片系位于气室外侧，该气室两侧相对于下内部空间之阀件伞片系位于气室内侧。 ;2.如申请专利范围第1项所述之电磁泵浦之气室结构改良，该气室系由第一及第二两壳体对合固定而构成，该各壳体之内侧面间系各形成有一呈横向相对之阻肋，该两阻肋于两壳体对合时，系将气室区分为上、下两内部空间。 ;3.如申请专利范围第1或2项所述之电磁泵浦之气室结构改良，该气室外侧相对于上、下两内部空间处系各设有数导管而相通。 ;4.如申请专利范围第1或2项所述之电磁泵浦之气室结构改良，该各通孔区于各壳体内外侧面系各形成两凸起之内、外圈环，各内圈环中系设一穿孔而可供阀件穿置，各内、外圈环间系布设数成环状排列之穿孔，该各阀件之伞片系各覆盖于所盖应之内、外圈环上。 ;5.如申请专利范围第1或2项所述之电磁泵浦之气室结构改良，该各穿孔区系由数环状排列之穿孔所构成，各阀件之伞片系覆盖于所对应穿孔区之各穿孔。 ;6.如申请专利范围第3项所述之电磁泵浦之气室结构改良，该相对于上、下两内部空间之导管数量相同。 ;7.如申请专利范围第3项所述之电磁泵浦之气室结构改良，该相对于上、下两内部空间之导管，系设于相对之位置。 ;8.如申请专利范围第4项所述之电磁泵浦之气室结构改良，该阀件以软性材质所制成，其系具一平面伞片，伞片之中心位置凸伸一心柱，心柱之环面距伞片一轴向距离处形成阶级缘，阀件之心柱系穿置于对应之内圈环中之穿孔，其阶级缘系可变形收缩而亦穿越过穿孔，各心柱自阶级缘以下则予以剪断。;图一系习知电磁泵浦之立体示意图。;图二系图一之BB位置之剖面动作示意图。;图三系习知电磁泵浦之气室之立体分解图。;图四系图一之AA位置之剖面示意图。;图五系本创作电磁泵浦之气室之立体分解图。;图六系本创作电磁泵浦之立体示意图。;图七系图六之CC位置之剖面示意图。;图八系图六之DD位置之剖面示意图。;图九A、B系图六之EE位置之剖面动作示意图。 |
