发明名称 改质压克力树脂及包含此改质压克力树脂之光学扩散材料;MODIFIED ACRYLIC RESIN AND OPTICAL DIFFUSING COMPOSITION CONTAINING THE RESIN
摘要 本发明系提供一种改质压克力树脂,包括一含一环基(cyclic group)的丙烯酸单元透明树脂,且本发明之改质压克力树脂具有低吸水率的特性。此外,本发明之改质压克力树脂可配合光散射粒子与光安定剂以形成一光扩散材料,可应用于液晶显示器之背光模组。
申请公布号 TWI328013 申请公布日期 2010.08.01
申请号 TW095149461 申请日期 2006.12.28
申请人 财团法人工业技术研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 新竹县竹东镇中兴路4段195号 发明人 简佩琪;吴耀庭;王文献;温俊祥
分类号 主分类号
代理机构 代理人 洪澄文 台北市大安区信义路4段279号3楼;颜锦顺 台北市大安区信义路4段279号3楼
主权项 1.一种改质压克力树脂,具有如式(I)及式(II)所示之重覆单元:其中该式(I)与式(II)的重量百分比例在5%至80%之间,且R1及R2各自独立地为氢或烷基。 ;2.如申请专利范围第1项所述之改质压克力树脂,其中该式(I)为一含环基(cyclic group)化合物。 ;3.如申请专利范围第1项所述之改质压克力树脂,其中该式(II)为一透明树脂。 ;4.如申请专利范围第1项所述之改质压克力树脂,其中该改质压克力树脂为2-癸基氢萘丙烯酸甲酯(2-decahydronaphthyl methacrylate,2-DHM)与甲基丙烯酸脂(MMA)之共聚物。 ;5.如申请专利范围第1项所述之改质压克力树脂,其中该改质压克力树脂的折射率为1.4-1.7之间。 ;6.如申请专利范围第1项所述之改质压克力树脂,其中该改质压克力树脂的重量平均分子量为10000-200000之间。 ;7.一种光学扩散材料组成物,包括一改质压克力树脂、一光散射粒子及一光安定剂,其中该组成物中光散射粒子所占的比例为0.1wt%至20wt%之间;安定剂所占的比例为0.01wt%至0.5wt%之间;改质压克力树脂含量为79wt%至99.8wt%之间,且该改质压克力树脂具有如式(I)及式(II)所示之重覆单元:其中该式(I)与式(II)的重量百分比例在5%至80%之间,且R1及R2各自独立地为氢或烷基。 ;8.如申请专利范围第7项所述之光学扩散材料组成物,其中该式(I)为一含环基(cyclic group)化合物。 ;9.如申请专利范围第7项所述之光学扩散材料组成物,其中该式(II)为一透明树脂。 ;10.如申请专利范围第7项所述之光学扩散材料组成物,其中该改质压克力树脂为2-癸基氢萘丙烯酸甲酯(2-decahydronaphthyl methacrylate,2-DHM)与甲基丙烯酸脂(MMA)之共聚物。 ;11.如申请专利范围第7项所述之光学扩散材料组成物,其中该改质压克力树脂的折射率为1.4-1.7之间。 ;12.如申请专利范围第7项所述之光学扩散材料组成物,其中该改质压克力树脂的分子量为10000-200000之间。 ;13.如申请专利范围第7项所述之光学扩散材料组成物,其中该光散射粒子包括聚苯乙烯、碳酸钙、二氧化矽、二氧化钛、丙烯酸系高分子、矽树脂高分子、聚乙烯高分子或聚碳酸脂。 ;14.如申请专利范围第7项所述之光学扩散材料组成物,其中该散射粒子之粒径为0.1-20 μm之间。 ;15.如申请专利范围第7项所述之光学扩散材料组成物,其中该安定剂为对苯二酚、二苯酮系、苯三唑系或受阻胺系列。
地址 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 新竹县竹东镇中兴路4段195号