抗反射膜及其制作方法;ANTIREFLECTIVE FILM AND METHOD FOR MAKING THEREOF

摘要

本发明提供一种抗反射膜及其制作方法。上述抗反射膜包含一透明基板；一硬镀层，形成于该透明基板上；以及具有复数个奈米粒子的一低折射率层，形成于该硬镀层的上方。由于抗反射膜具有奈米粒子，不但可增加抗反射膜的穿透率(transmittance)，而且也可以降低抗反射膜的反射率(reflectance)。

主权项

1.一种抗反射膜，包含：一透明基板；一硬镀层，形成于该透明基板上；以及一低折射率层，形成于该硬镀层的上方，且该低折射率层具有复数个奈米粒子，其粒径介于10~500奈米之间。 ;2.如申请专利范围第1项所述之抗反射膜，其中该透明基板包含玻璃或高分子材质。 ;3.如申请专利范围第2项所述之抗反射膜，其中该高分子材质包含聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚乙烯对苯二甲酸酯或三醋酸纤维酯。 ;4.如申请专利范围第1项所述之抗反射膜，其中该低折射率层包含含氟矽烷化合物或含氟共聚物。 ;5.如申请专利范围第1项所述之抗反射膜，其中该等奈米粒子包含有机或无机材质。 ;6.如申请专利范围第5项所述之抗反射膜，其中该等奈米粒子包含氧化矽、氧化铝、锑掺杂氧化锡、氧化锡、锑酸锌、五氧化锑、氧化铟锡或掺铝氧化锌。 ;7.如申请专利范围第5项所述之抗反射膜，其中该等奈米粒子包含聚甲基乙基酸甲酯、聚苯乙烯或苯代三聚氰胺。 ;8.如申请专利范围第1项所述之抗反射膜，其中该等奈米粒子的固含量比介于10~95%之间。 ;9.如申请专利范围第1项所述之抗反射膜，其表面粗糙度系小于100奈米。 ;10.如申请专利范围第1项所述之抗反射膜，其中该硬镀层包含一光启始剂、一紫外光硬化型树脂单体及一寡聚物。 ;11.如申请专利范围第1项所述之抗反射膜，其中该硬镀层更包含复数个胶体型无机奈米粒子。 ;12.如申请专利范围第11项所述之抗反射膜，其中该等胶体型无机奈米粒子包含二氧化矽、氧化铝、氧化锆、氧化钛、氧化锌、氧化锗、氧化铟或氧化锡。 ;13.如申请专利范围第1项所述之抗反射膜，其中该硬镀层更包含复数个微米粒子。 ;14.如申请专利范围第13项所述之抗反射膜，其中该等微米粒子包含氧化矽、氧化铝、丙烯酸-苯乙烯共聚物、三聚腈胺或聚碳酸树脂。 ;15.一种抗反射膜的制作方法，包括：提供一透明基板；形成一硬镀层于该透明基板上；以及形成具有复数个奈米粒子之一低折射率层于该硬镀层的上方，其中该等奈米粒子的粒径介于10~500奈米之间。 ;16.如申请专利范围第15项所述之抗反射膜的制作方法，其中低折射率层包含含氟矽烷化合物或含氟共聚物。 ;17.如申请专利范围第15项所述之抗反射膜的制作法，其中该等奈米粒子包含氧化矽、氧化铝、锑掺杂氧化锡、氧化锡、锑酸锌、五氧化锑、氧化铟锡或掺铝氧化锌。 ;18.如申请专利范围第15项所述之抗反射膜的制作方法，其中该等奈米粒子包含聚甲基乙基酸甲酯、聚苯乙烯或苯代三聚氰胺。 ;19.如申请专利范围第15项所述之抗反射膜的制作方法，其中硬镀层包含一光启始剂、一紫外光硬化型树脂单体、一寡聚物及一溶剂。 ;20.如申请专利范围第15项所述之抗反射膜的制作方法，其中该硬镀层更包含复数个胶体型的无机奈米粒子或复数个微米粒子。;第1图显示习知之抗反射膜的剖面图；以及第2A-2B图显示根据本发明之实施例之制作抗反射膜的剖面图；第3图显示根据本发明之实施例之抗反射膜的剖面图。