包括树脂混合物之光阻组成物;PHOTORESIST COMPOSITIONS COMPRISING RESIN BLENDS

摘要

本案提供新颖正型光阻组成物，其包含光活性成分及含至少两种不同树脂的掺合物：i)第一树脂，其包括带有含杂原子取代基(特别是羟基或硫醇基)之碳环系芳基，与ii)第二经交联的树脂。本发明之较佳光阻可以在短波长，例如小于200奈米，特别是193奈米之下成像。

主权项

1.一种正型光阻组成物，其包括：1)光活性成分，其包含光酸产生剂化合物；及2)树脂成分，包括：i)第一树脂，其包括带有含杂原子取代基之萘基及与ii)第二树脂，其不同于该第一树脂且包括经交联的基团，其中该带有含杂原子取代基之萘基为经由一或多个选自由羟基、硫醇基、羟基C1-6烷基、硫醇C1-6烷基、C1-6烷醯基、C1-6烷硫基、羧酸酯基以及C1-8醚取代基所组成群组之取代基取代之萘基，以及该第一和第二树脂各分别实质上不含该带有含杂原子取代基之萘基以外的芳族基且该第一和第二树脂系以10:90至90:10之相对比率存在。 ;2.如申请专利范围第1项之光阻组成物，其中该带有含杂原子取代基之萘基为羟基萘基。 ;3.如申请专利范围第1项之光阻组成物，其中该第一树脂和第二树脂中之一者或两者包括经聚合的丙烯酸酯单元。 ;4.如申请专利范围第1项之光阻组成物，其中该第一树脂及第二树脂中之一者或两者包括光酸不安定性基。 ;5.如申请专利范围第4项之光阻组成物，其中该光酸不安定性基为酯基或缩醛基。 ;6.一种提供光阻凸版影像之方法，其包括：a)于基板上施加申请专利范围第1项之光阻组成物涂层；与 b)将该光阻组成物涂层暴露于辐射且使该已曝光的光阻组成物涂层显像。 ;7.一种树脂混合物，其包括：i)第一树脂，其包括带有含杂原子取代基之萘基；及ii)第二树脂，其不同于该第一树脂且包括经交联的基团，其中该带有含杂原子取代基之萘基为经由一或多个选自由羟基、硫醇基、羟基C1-6烷基、硫醇C1-6烷基、C1-6烷醯基、C1-6烷硫基、羧酸酯基以及C1-8醚取代基所组成群组之取代基取代之萘基，以及该第一和第二树脂各分别实质上不含该带有含杂原子取代基之萘基以外的芳族基且该第一和第二树脂系以10:90至90:10之相对比率存在。;第1A图和第1B图显示前述实施例16中已显像的光阻影像之扫描电子显微照片(SEM)。