| 主权项 |
1.一种石版画纹路透光调整暨图像文字投射显现处理结构，主要由已知之画框(1)、承板(2)、石版画(3)及发光组(4)所构成，发光组(4)之光源可投射于石版画(3)背面，其特征在于：将嵌裱在画框(1)中之各种板状天然石版画(3)，除了在其背面可经由LED灯(43)投射光源外，并可依石版画(3)上石纹的透光差异，经由透光检测下，于石版画(3)背面将较深色纹理部份予研磨打薄到理想透光程度，并可使其与原有可透光部份形成最佳协调效果。 ;2.如申请专利范围第1项所述石版画纹路透光调整暨图像文字投射显现处理结构，其中发光组(4)，电性连接有电池组(44)及直流电输入端(46)，提供使用者选择以电池供电或以经电源转换器转换之直流电供电使用。 ;3.如申请专利范围第1项所述石版画纹路透光调整暨图像文字投射显现处理结构，其中石版画(3)上可加以刻上纪念文字、图像或姓氏(31)并经光源投射，使该纪念文字、图像或姓氏(31)依然可被有效浮现。;第一图为本创作分解立体图。;第二图为本创作背面视角立体图。 |
