METHOD FOR FORMING AN ISOLATION LAYER IN A SEMICONDUCTOR DEVICE,申请号KR20070121369-传众专利搜索

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发明名称	METHOD FOR FORMING AN ISOLATION LAYER IN A SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号	KR100973223(B1)	申请公布日期	2010.07.30
申请号	KR20070121369	申请日期	2007.11.27
申请人		发明人
分类号	H01L21/76	主分类号	H01L21/76
代理机构		代理人
主权项
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