发明名称 |
借助“像素偏移”生成分辨率提高的三维对象的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种用于借助掩模曝光通过逐层固化可在电磁辐射作用下固化的材料来制造三维对象的方法和装置,其中掩模由具有固定分辨率的成像单元产生,掩模由恒定数量的离散的且在空间上相互固定设置的成像元素(像素)形成。为了改善在亚像素范围中沿着要逐层产生的对象的横截面的外轮廓和内轮廓的分辨率,对每一层进行多次曝光,该多次曝光由图像面/构造面中在亚像素范围内相互偏移的多个图像序列组成,其中对每个偏移的图像生成单独的掩模/位图。 |
申请公布号 |
CN1950191B |
申请公布日期 |
2010.07.28 |
申请号 |
CN200580014918.0 |
申请日期 |
2005.05.09 |
申请人 |
想象科技有限公司 |
发明人 |
亚历山大·什科林尼克;亨德里克·约翰;阿里·埃尔-斯博兰尼 |
分类号 |
B29C67/00(2006.01)I |
主分类号 |
B29C67/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
赵科 |
主权项 |
一种用于借助掩模曝光通过逐层固化可在电磁辐射作用下固化的材料来制造三维对象的方法,其中所述掩模由具有确定分辨率的成像单元生成,所述掩模由恒定数量的在空间上相互固定设置的离散的成像元素或像素形成,其特征在于,为了在亚像素范围中提高沿要逐层生成的对象的横截面的外轮廓和内轮廓的分辨率,对每一层进行多次曝光,其中所述多次曝光由图像面或构造面中多个在亚像素范围内相互偏移的图像的序列构成,其中对于每个偏移的图像生成单独的掩模或位图。 |
地址 |
德国格拉德贝克 |