发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 一种半导体装置,具有:模焊盘(3),由在表面形成第1焊锡接合层的金属构成;和半导体元件(5),在该模焊盘(3)的第1焊锡接合层(11)上,由以铋为主成分的焊锡材料(9)固接而成。第1焊锡接合层(11),由比焊锡材料(9)更软的材料构成;在第1焊锡接合层(11)的一部分中,形成由焊锡材料(9)被按压而成的凹陷部分(11a),焊锡材料(9)的一部分,填充至凹陷部分(11a)。
申请公布号 CN101790780A 申请公布日期 2010.07.28
申请号 CN200980100250.X 申请日期 2009.06.12
申请人 松下电器产业株式会社 发明人 松尾隆广;古泽彰男;酒谷茂昭
分类号 H01L21/52(2006.01)I;H01L23/48(2006.01)I 主分类号 H01L21/52(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 汪惠民
主权项 一种半导体装置,包括:模焊盘,由在表面形成第1焊锡接合层的金属构成;和半导体元件,由以铋为主要成分的焊锡材料固定在所述模焊盘的所述第1焊锡接合层上,所述第1焊锡接合层,由比所述焊锡材料更软的材料构成;在所述第1焊锡接合层的一部分中,形成由所述焊锡材料被按压而成的凹陷部分,所述焊锡材料的一部分填充至所述凹陷部分。
地址 日本大阪府
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