发明名称 |
真空处理设备、使用该真空处理设备制造图像显示设备的方法以及由该真空处理设备制造的电子装置 |
摘要 |
一种真空处理设备,其使用磁性材料的掩模膜状平面和磁性材料的掩模框架来处理被处理物体,该真空处理设备的特征在于,由永电磁体吸引磁性材料的掩模,永电磁体被配置在相对于安装有被处理物体的表面与掩模相反的一侧。 |
申请公布号 |
CN101790597A |
申请公布日期 |
2010.07.28 |
申请号 |
CN200880100331.5 |
申请日期 |
2008.03.28 |
申请人 |
佳能安内华股份有限公司 |
发明人 |
井上雅人;松井绅;姬路俊明 |
分类号 |
C23C14/04(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所 11277 |
代理人 |
刘新宇;张会华 |
主权项 |
一种真空处理设备,其包括:真空排气装置;室,由所述真空排气装置排出所述室的内部的大气;基台,用于在所述基台上安装被处理物体;磁性材料的掩模,其被布置于所述被处理物体的一表面侧;以及永电磁体,其被包括在所述基台中并且被布置于所述被处理物体的另一表面侧,其中,通过用所述永电磁体吸引磁性材料的所述掩模而将所述被处理物体固定到所述基台。 |
地址 |
日本神奈川县 |