| 发明名称 | 一种分子印迹聚合物及其制法与应用 | ||
| 摘要 | 本发明揭示了一种用于金属离子检测的分子印迹聚合物，其印迹和洗脱对象均为金属络合物离子，聚合物的印迹几何尺寸、结合点位与金属络合物离子特异性吻合。在石英微天平和表面等离子共振装置的金属薄膜表面原位合成聚合物，再将所述金属络合物离子洗脱，对需要检测的金属离子络合化后用分子印迹聚合物选择性吸附，检测金属离子的种类及含量。本发明通过对金属离子络合化处理，使金属离子体积的细微变化大幅度放大，利用分子印迹聚合物对模板分子几何结构的记忆性能，实现高选择性吸附，从而有效提高了金属离子检测的选择性。同时，由于金属离子络合后引起的质量增大和几何尺寸放大，进一步提高了金属离子检测的灵敏度及抗干扰能力。 | ||
| 申请公布号 | CN101787123A | 申请公布日期 | 2010.07.28 |
| 申请号 | CN201010122775.8 | 申请日期 | 2010.03.05 |
| 申请人 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 发明人 | 邓宗武;陆枫;汪莲艳;英晓芳;吴福全 |
| 分类号 | C08G73/02(2006.01)I;C08G73/06(2006.01)I;C08G61/12(2006.01)I;C08J9/26(2006.01)I;B01J20/285(2006.01)I;B01J20/30(2006.01)I;G01N31/20(2006.01)I | 主分类号 | C08G73/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 | 代理人 | 陈忠辉 |
| 主权项 | 一种分子印迹聚合物，其特征在于：所述聚合物的印迹和洗脱对象均为金属络合物离子，聚合物的印迹几何尺寸、结合点位与金属络合物离子特异性吻合。 | ||
| 地址 | 215125 江苏省苏州市工业园区若水路398号 | ||