| 发明名称 | 净化多晶硅的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种净化多晶硅的方法。在所述方法中，净化溶液流被改进。 | ||
| 申请公布号 | CN101790493A | 申请公布日期 | 2010.07.28 |
| 申请号 | CN200880104719.2 | 申请日期 | 2008.08.08 |
| 申请人 | 瓦克化学股份公司 | 发明人 | H·沃赫纳;C·戈斯曼;H·林德纳 |
| 分类号 | C01B33/00(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | C01B33/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 过晓东 |
| 主权项 | 净化多晶硅碎片的方法，其特征在于，在多个工艺步骤的至少一个中净化液体流的流速大于100mm/s，所述净化液体流从超过两个不同的方向上撞击所述多晶硅碎片的表面。 | ||
| 地址 | 德国慕尼黑 | ||