发明名称 COMPOUND PLASMA SOURCE AND METHOD FOR DISSOCIATING GASES USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR100972371(B1) 申请公布日期 2010.07.27
申请号 KR20060032985 申请日期 2006.04.11
申请人 发明人
分类号 H05H1/28;H05H1/34 主分类号 H05H1/28
代理机构 代理人
主权项
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