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经营范围
发明名称
Manufacturing Method for Semiconductor Pattern
摘要
申请公布号
KR100972058(B1)
申请公布日期
2010.07.22
申请号
KR20080089841
申请日期
2008.09.11
申请人
发明人
分类号
H01L21/027;H01L21/00
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
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