| 发明名称 |
Photoresist Image-forming Process Using Double Patterning |
| 摘要 |
A process for forming a double photoresist pattern is disclosed.
|
| 申请公布号 |
US2010183851(A1) |
申请公布日期 |
2010.07.22 |
| 申请号 |
US20090356568 |
申请日期 |
2009.01.21 |
| 申请人 |
CAO YI;THIYAGARAJAN MUTHIAH;HONG SUNGEUN;LEE DONGKWAN;LI MENG;MIKRUT DAVID |
发明人 |
CAO YI;THIYAGARAJAN MUTHIAH;HONG SUNGEUN;LEE DONGKWAN;LI MENG;MIKRUT DAVID |
| 分类号 |
B32B5/00;G03F7/004;G03F7/20 |
主分类号 |
B32B5/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
