| 主权项 |
1.一种光学结构改良，该光学结构至少一侧边设有复数微结构；其特征在于：该侧边系沿微结构至少一表面延伸有一凸出部。 ;2.如请求项1所述光学结构改良，其中，该凸出部系由侧边沿微结构上表面延伸而成。 ;3.如请求项2所述光学结构改良，其中，该侧边至少包含有入光侧、一与入光侧相邻之底侧以及与底侧相对之出光侧，各微结构系设于入光侧上，而凸出部则设于入光侧与出光侧相邻处。 ;4.如请求项1所述光学结构改良，其中，该凸出部系由侧边沿微结构下表面延伸而成。 ;5.如请求项4所述光学结构改良，其中，该侧边至少包含有入光侧、一与入光侧相邻之底侧以及与底侧相对之出光侧，各微结构系设于入光侧上，而凸出部则设于入光侧与底侧相邻处。 ;6.如请求项1所述光学结构改良，其中，该凸出部系由侧边沿微结构上表面及下表面延伸而成。 ;7.如请求项4所述光学结构改良，其中，该侧边至少包含有入光侧、一与入光侧相邻之底侧以及与底侧相对之出光侧，各微结构系设于入光侧上，而凸出部则设于入光侧与出光侧相邻处以及入光侧与底侧相邻处。 ;8.如请求项1、2、4或6所述光学结构改良，其中，该凸出部之长度系大于微结构之高度。 ;9.如请求项1、2、4或6所述光学结构改良，其中，该凸出部之长度系等于微结构之高度。;第一图系为习用导光板之结构立体图。;第二图系为习用导光板之结构示意图。;第三图系为本创作中光学结构第一实施例之结构立体图。;第四图系为本创作中光学结构第二实施例之结构立体图。;第五图系为本创作中光学结构第三实施例之结构立体图。;第六图系为本创作中光学结构第三实施例之结构示意图。 |
