发明名称 涂覆有包括部分在离子辅助下形成的子层的抗反射涂层的光学物品及其制造方法
摘要 本发明涉及一种具有抗反射性质的光学物品,其包括至少一个主表面涂覆有抗反射涂层的基材,所述抗反射涂层从基材开始包括:子层,其包括优选由相同材料形成的两相邻层,这些两相邻层的厚度之和大于或等于75nm;以及多层抗反射堆叠,其包括至少一层高折射率层和至少一层低折射率层,其中不在离子辅助下进行子层的所述两相邻层的第一层的沉积,以及在离子辅助下进行子层的所述两相邻层的第二层的沉积。本发明还涉及用于制造这样的光学物品的方法。
申请公布号 CN101784915A 申请公布日期 2010.07.21
申请号 CN200880102530.X 申请日期 2008.06.12
申请人 埃西勒国际通用光学公司 发明人 L·努韦罗;J·罗特;K·谢勒;D·瓦莱
分类号 G02B1/11(2006.01)I;G02C7/02(2006.01)I;C23C14/32(2006.01)I;C03C17/00(2006.01)I 主分类号 G02B1/11(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 林柏楠;刘金辉
主权项 一种具有抗反射性质的光学物品,其包括至少一个主表面涂覆有抗反射涂层的基材,所述抗反射涂层从基材开始包括:-子层,其包括优选由相同材料形成的两相邻层,该两相邻层的厚度之和大于或等于75nm;以及-多层抗反射堆叠,其包括至少一层高折射率层和至少一层低折射率层,其中不在离子辅助下进行子层的所述两相邻层的第一层的沉积,以及在离子辅助下进行子层的所述两相邻层的第二层的沉积。
地址 法国沙朗通勒蓬