一种MEMS微桥结构的制备方法

摘要

本发明提供了一种MEMS微桥结构的制备方法，包括以下步骤：a.在衬底的表面区域制作反射层；b.在反射层的表面区域制作牺牲层，并在牺牲层上刻蚀出支撑孔；c.在牺牲层的表面区域依次制作支撑层、敏感层和介质层；d.实现支撑孔内和桥面区域的图形化，形成接触孔；e.接着在介质层表面区域沉积金属电极层和金属铜，并对铜金属进行平坦化，止于介质层；f.除去牺牲层，释放形成最后的微桥结构。该制备方法利用铜柱取代传统的铝柱，利用铜化学机械抛光的方法实现金属电极的自对准图形化，不但实现微桥结构的平坦化，而且该方法有效地降低连线电阻，同时也降低工艺复杂性。

主权项

一种MEMs微桥结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：a.在衬底的表面区域制作反射层；b.在反射层的表面区域制作牺牲层，并在牺牲层上刻蚀出支撑孔；c.在牺牲层的表面区域依次制作支撑层、敏感层和介质层；d.实现支撑孔内和桥面区域的图形化，形成接触孔；e.接着在介质层表面区域沉积金属电极层和金属铜，并对铜金属进行平坦化，止于介质层；f.除去牺牲层，释放形成最后的微桥结构。