发明名称 Hijyenik ortamlarin olusturulmasinda kullanilan antibakteriyel sivilarin üretimi.
摘要 Her türlü hijyenik ortamlarin olusturulmasindaki uygulamalarda kullanilan antibakteriyel sivinin fabrikasyon islemi gümüs nitrat (AgNOs), glikoz (CeHnOv) ve saf suyun (H2O) karistirilmasiyla nano gümüs (Ag) çözeltisinin hazirlanmasi, H202'in nano Ag çözeltisine eklenmesi ve antibakteriyel sivin üretimini içermektedir. Antibakteriyel sivinin üretimi 25 C, 30 dakikada ve hava atmosferinde AgNOa, CeH^Oe, saf H2O ve hidrojen peroksit (H2O2) bilesenlerin karistirilmasiyla gerçeklestirilmistir. Üretilen sivinin pH degeri 2.32 bulunmustur. Antibakteriyel sivi preparat tüm bakterilere karsi 0.25 iJ.g/ml konsantrasyonda etkili bulunmustur. Ürün olarak gönderilen sivi preparat denenen bakterilere karsi standart antibiyotik olan gentamisinden daha iyi antimikrobiyal aktiviteye sahip oldugu tespit edilmistir.
申请公布号 TR200908316(A2) 申请公布日期 2010.07.21
申请号 TR20090008316 申请日期 2009.11.04
申请人 ERDAL CELIK;TUNCER SIGALI;MEHMET SEKIP SAGDUYU 发明人 ERDAL CELIK;MEHMET SEKIP SAGDUYU;TUNCER SIGALI
分类号 A61L2/00 主分类号 A61L2/00
代理机构 代理人
主权项
地址