| 发明名称 | 面发光激光阵列、光学扫描装置和成像装置 | ||
| 摘要 | 一种面发光激光阵列，包括设置成二维阵列形式的多个面发光激光二极管元件，其中，从沿第二方向排列的多个面发光激光二极管元件的各自中心起垂直于沿同该第二方向垂直的第一方向延伸的直线绘制的多条直线被形成为沿该第一方向具有大致相等的间隔，多个面发光激光二极管元件沿第一方向以被设定为基准值的间隔排列，以及沿第一方向排列的面发光激光二极管元件的数量少于沿第二方向排列的面发光激光二极管元件的数量。 | ||
| 申请公布号 | CN101776224A | 申请公布日期 | 2010.07.14 |
| 申请号 | CN201010116997.9 | 申请日期 | 2007.04.27 |
| 申请人 | 株式会社理光 | 发明人 | 佐藤俊一;伊藤彰浩;庄子浩义;林义纪;市井大辅;原敬;藤井光美 |
| 分类号 | F21S2/00(2006.01)I;F21V19/00(2006.01)I;F21V5/00(2006.01)I;B41J2/455(2006.01)I | 主分类号 | F21S2/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 王冉 |
| 主权项 | 一种面发光激光阵列，包括二维设置的多个面发光激光二极管元件，其中，所述面发光激光二极管元件设置成在面发光激光阵列的中心部的密度比在所述面发光激光阵列的周边部的更低 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||