一种高温云纹光栅的制作方法

摘要

一种高温云纹光栅的制作方法，属于光学器件制造、光测力学领域。将试件基底材料抛光、清洗、烘干后，在试件基体材料表面沉积一层在高温下抗氧化的金属膜；根据模板上云纹光栅尺寸的特点和光刻胶的型号调整温度、压力、时间等参数，将模板的表面图案转印到基底材料的光刻胶上；经过干法或湿法刻蚀，在基底材料上再镀一层在高温下抗氧化的金属膜，去除光刻胶后，可制成高温云纹光栅。所述的高温为为800～1000℃范围；所述的试件基底材料采用耐高温的金属合金或非金属材料。光栅制作的原理清晰，且操作方便、效率高、成本低，可批量生产。

主权项

一种高温云纹光栅的制作方法，其特征在于该方法包括如下步骤：1)将试件基底材料抛光，清洗、烘干后，在试件基体材料表面沉积一层在高温下抗氧化的金属膜；2)将光刻胶旋涂在试件基底材料上，烘干定胶后，将正交云纹光栅模板覆盖在烘干定胶后基底材料上；通过温控设备升温，达到光刻胶的转变温度Tg以上后施加压力，压力的大小p和保持的时间t根据模板云纹光栅尺寸和光刻胶的型号确定，确定方法如下：先确定光刻胶的粘度： log η 0 ( T ) η 0 ( T g ) = - C 1 · ( T - T g ) C 2 + ( T - T g ) 其中：C1、C2为常数，由光刻胶的型号唯一确定；η0为光刻胶的粘度，它是温度T的函数；再选择压力的大小p和保持的时间t： t = η 0 ( T ) L 2 2 p ( 1 h f 2 - 1 h 0 2 ) 其中：L为云纹光栅的栅距，h0为光刻胶初始的厚度，hf为光刻胶最终的厚度；将温度降低至室温后卸压，将云纹光栅模板与试件基底材料分离；此时，云纹光栅模板表面的图案转印到了试件基底材料表面的光刻胶上；3)采用干法或者湿法对试件基底材料进行刻蚀；在试件基底材料表面再镀一层在高温下抗氧化的金属膜，方法与第一层金属膜相同；去除基底材料上的光刻胶，最终制成在高温下使用的云纹光栅；所述的高温为800～1000℃范围。