一种用于GaAs晶片的粗抛光溶液和粗抛光方法

摘要

本发明涉及用于GaAs晶片的机械化学粗抛光溶液和机械化学粗抛光方法，本发明的用于GaAs晶片的机械化学粗抛光溶液，除水以外，包括二氯代异氰尿酸盐、磺酸盐、焦磷酸盐、碳酸氢盐和硅溶胶。本发明的机械化学粗抛光方法，包括在机械化学粗抛光设备中，在所述抛光溶液存在下，对晶片实施机械化学粗抛光。采用本发明的溶液和方法，可以提高GaAs晶片的平整度质量，以及晶片表面镜面质量，同时能够降低机械化学粗抛光作业成本及对环境的影响。

主权项

一种用于GaAs晶片的机械化学粗抛光溶液，除水以外，包括二氯代异氰尿酸盐、磺酸盐、焦磷酸盐、碳酸氢盐和硅溶胶。