发明名称 | 层积基板及其制造方法和金刚石膜及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明以低成本提供:金刚石和单晶基板不会破损,且具有面积大、结晶性高的单晶金刚石膜作为连续膜的层积基板及其制造方法。该层积基板是至少具有单晶基板和在该单晶基板上化学气相沉积的金刚石膜的层积基板,其特征在于,上述单晶基板是Ir单晶或Rh单晶。该层积基板的制造方法的特征在于,至少具有在单晶基板上化学气相沉积金刚石膜的工序,并且上述单晶基板使用Ir单晶或Rh单晶。 | ||
申请公布号 | CN101775648A | 申请公布日期 | 2010.07.14 |
申请号 | CN200910253987.7 | 申请日期 | 2009.12.11 |
申请人 | 信越化学工业株式会社 | 发明人 | 野口仁 |
分类号 | C30B29/04(2006.01)I;C30B25/02(2006.01)I | 主分类号 | C30B29/04(2006.01)I |
代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 钟晶 |
主权项 | 一种层积基板,其是至少具有单晶基板以及在该单晶基板上化学气相沉积的金刚石膜的层积基板,其特征在于,所述单晶基板是Ir单晶或Rh单晶。 | ||
地址 | 日本东京都 |