发明名称 |
一种具有保护涂层的石墨基座及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供一种具有保护涂层的石墨基座及其制备方法,结合原位化学气相反应渗透+化学气相沉积两步法在多孔石墨基座表面制备碳化硅涂层。该制备方法按如下步骤进行:a.将石墨基座基体置入反应室中,当反应室温度为1300~1600℃、真空为200~5000Pa条件下,按照SiCl4∶H2=1∶5~50体积比向反应室内通入SiCl4气和H2气,氢气流量为200-1000ml/min,通气时间为0.5~2小时,原位气相反应在石墨基座基体上渗透一层初级SiC涂层;然后b.按照CH3SiCl3∶H2=1∶5~100体积比向反应室内通入CH3SiCl3气和H2气,控制氢气流量为200-1000ml/min,通气时间为1~50小时,裂解后在初级SiC涂层表面外沉积一层二级SiC涂层。 |
申请公布号 |
CN101775590A |
申请公布日期 |
2010.07.14 |
申请号 |
CN201010011510.0 |
申请日期 |
2010.01.08 |
申请人 |
刘锡潜;刘汝强 |
发明人 |
刘锡潜;刘汝强 |
分类号 |
C23C16/32(2006.01)I;C23C16/42(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/32(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种具有保护涂层的石墨基座,其特征在于石墨基座基体(1)表面外渗透有初级SiC涂层(2),在初级SiC涂层(2)外沉积有一层二级SiC涂层(3)。 |
地址 |
251200山东省禹城市通衢路2731号 |