发明名称 |
异质结双极晶体管 |
摘要 |
本发明的目的在于提供可以再现性良好且高成品率地制造的、在抗击穿性上优良的异质结双极晶体管,其特征在于,具备辅助集电极层、集电极层、以及具有比构成基极层的半导体还大的能带间隙的发射极层;集电极层具有形成在辅助集电极层上的第1集电极层、形成在第1集电极层上的第2集电极层、以及形成在第2集电极层和基极层之间的第3集电极层;构成第1集电极层的半导体不同于构成第3集电极层以及第2集电极层的半导体;第2集电极层的杂质浓度比辅助集电极层的杂质浓度还低,且比第3集电极层的杂质浓度还高。 |
申请公布号 |
CN1988172B |
申请公布日期 |
2010.07.14 |
申请号 |
CN200610169050.8 |
申请日期 |
2006.12.19 |
申请人 |
松下电器产业株式会社 |
发明人 |
村山启一;田村彰良;宫本裕孝;宫岛贤一 |
分类号 |
H01L29/737(2006.01)I;H01L21/331(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/737(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
胡建新 |
主权项 |
一种异质结双极晶体管,其特征在于,包括:辅助集电极层;集电极层,形成在上述辅助集电极层上;基极层,形成在上述集电极层上;以及发射极层,形成在上述基极层上,由具有比构成上述基极层的半导体还大的能带间隙的半导体构成;上述集电极层具有形成在上述辅助集电极层上的第1集电极层、形成在上述第1集电极层上的第2集电极层、以及形成在上述第2集电极层和上述基极层之间的第3集电极层;构成上述第1集电极层的半导体不同于构成上述第3集电极层以及第2集电极层的半导体;上述第2集电极层的杂质浓度比上述辅助集电极层的杂质浓度还低,且比上述第3集电极层的杂质浓度还高;上述第1集电极层由与上述辅助集电极层相接的无掺杂或掺杂的InGaP层以及与上述第2集电极层相接的杂质浓度比上述InGaP层的杂质浓度还高的半导体层构成。 |
地址 |
日本大阪府 |