HEATING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS EMPLOYING THE SAME, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICES, AND EXTENDING MEMBER,申请号KR20080059571-传众专利搜索

发明名称	HEATING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS EMPLOYING THE SAME, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICES, AND EXTENDING MEMBER
摘要
申请公布号	KR100969696(B1)	申请公布日期	2010.07.14
申请号	KR20080059571	申请日期	2008.06.24
申请人		发明人
分类号	H01L21/324;H01L21/02	主分类号	H01L21/324
代理机构		代理人
主权项
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