具巨观检测之显影装置;DEVELOPING APPARATUS WITH MACROSCOPIC INSPECTION

摘要

本发明系有关于一种具巨观检测之显影装置，本发明之显影装置系包含一巨观检测装置及一显影装置，该巨观检测装置系与该显影装置连接，并置于该显影装置前，该巨观检测装置系先检测已涂布光阻之一基板，检测员系观测该基板是否产生缺陷，若发现该基板产生缺陷时，则将该基板回收报废或重新涂布光阻，如此可减少测试新制程及新光阻时间之浪费，并且可以提前在显影前观察到基板品质是否异常，以降低产品报废率，而且进而降低成本及提高生产量。

主权项

1.一种具巨观检测之显影装置，其系包含：一巨观检测装置，系检测已涂布光阻之一基板是否产生缺陷，该巨观检测装置系包含一检测平台及一灯箱，该灯箱系包含至少一光源组，该光源组系投射光源至放置于该检测平台上之该基板上，以便观测该基板是否产生缺陷，该光源组系包含一活动遮罩，该活动遮罩系选择遮蔽该光源组之一光源；及一显影装置，系连接该巨观检测装置，对未产生缺陷之该基板作显影。 ;2.如申请专利范围第1项所述之具巨观检测之显影装置，其中该基板系为透明基板。 ;3.如申请专利范围第1项所述之具巨观检测之显影装置，其中该巨观检测装置系更包含：一支撑座，系支撑该检测平台，并设有复数个螺杆，该些螺杆系调整该检测平台之倾斜角度。 ;4.如申请专利范围第1项所述之具巨观检测之显影装置，其中该光源组系包含复数个光源。 ;5.如申请专利范围第4项所述之具巨观检测之显影装置，其中该光源系为一白光源。 ;6.如申请专利范围第4项所述之具巨观检测之显影装置，其中该光源系为一钠光源。 ;7.如申请专利范围第1项所述之具巨观检测之显影装置，其中该检测平台与该灯箱间系设有一基座，该基座系以架设一遮罩(COVER)，该遮罩系使该光源均匀投射于该基板上。 ;8.如申请专利范围第7项所述之具巨观检测之显影装置，其中该遮罩之材质系为透光材质。 ;9.如申请专利范围第3项所述之具巨观检测之显影装置，其中该巨观检测装置系进一步包含：一罩体，系设置于该支撑座上，并开设至少一观测窗。 ;10.如申请专利范围第9项所述之具巨观检测之显影装置，其中该观测窗系开设于该罩体对应该检测平台及该灯箱之间之位置，以便观测该基板状态。 ;11.如申请专利范围第9项所述之具巨观检测之显影装置，其中该观测窗之中心系设置一支撑柱，该支撑柱系将该观测窗划分为一第一观测窗及一第二观测窗。 ;12.如申请专利范围第11项所述之具巨观检测之显影装置，其中该第一观测窗及第二观测窗系分别设置一安全拉门。 ;13.如申请专利范围第9项所述之具巨观检测之显影装置，其中该观测窗之两侧上方角落系分别设置一支撑柱，并于该观测窗系设置一安全拉门。;第1图：本发明之装置示意图；第2图：本发明之一较佳实施例之装置侧面示意图；第3图：本发明之一较佳实施例之灯箱剖面示意图；第4图：本发明之一较佳实施例之装置前视示意图；第5图：本发明之另一较佳实施例之灯箱剖面示意图；第6图：本发明之另一较佳实施例之装置前视示意图；第7A图：本发明之一较佳实施例之显影流程示意图；第7B图：本发明之另一较佳实施例之显影流程示意图；及第8图：习知之流程示意图。