发明名称 附遮光层之复眼透镜片及其制造方法、穿透型萤幕以及背面投影型图像显示装置
摘要 本发明系于背面投影型图像显示装置之穿透型萤幕,实现高穿透率及高对比。于一主面设有复眼透镜12之复眼透镜片之其他主面上形成感光性黏着层14,经由复眼透镜12而对感光性黏着层14照射紫外线,对感光性黏着层14形成黏着/非黏着图案,于支撑体18之一主面,使设置含有碳粒子45 wt%以上65 wt%以下之黑色层17而成之黑色转印膜19接触感光性黏着层14之表面后剥离。藉此,可制作具有二次元地形成穿透部15a之遮光层15之复眼透镜片。
申请公布号 TWI327253 申请公布日期 2010.07.11
申请号 TW095119736 申请日期 2006.06.02
申请人 新力股份有限公司 SONY CORPORATION 日本 发明人 芳贺友美;宫木幸夫;木曾弘之;长滨勉;松村伸一
分类号 主分类号
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种附遮光层之复眼透镜片,其特征在于包含:复眼透镜片,其系于一主面设置有复眼透镜;遮光层,其系设置于前述复眼透镜片之其他主面;及感光性黏着层,其系形成于前述复眼透镜片与前述遮光层之间,具有黏着/非黏着图案;前述遮光层包括:遮光部,其系形成于前述黏着图案上;及穿透部,其系形成于前述非黏着图案上,使穿透前述复眼透镜之光穿透;前述穿透部设置在对应于由前述复眼透镜所形成之聚光部之位置;前述遮光部含有碳粒子,并且前述碳粒子之含有量为45 wt%以上65 wt%以下;前述穿透部之形状为X形状或已调变之X形状。 ;2.如请求项1之附遮光层之复眼透镜片,其中前述穿透部之形状为四角形状或已调变之四角形状。 ;3.如请求项1之附遮光层之复眼透镜片,其中前述穿透部之形状为直线形状或已调变之直线形状。 ;4.如请求项1之附遮光层之复眼透镜片,其中前述复眼透镜具有非球面形状。 ;5.如请求项1之附遮光层之复眼透镜片,其中前述遮光部所占面积为前述遮光层全体面积之70%以上。 ;6.如请求项1之附遮光层之复眼透镜片,其中于前述非黏着图案之前述遮光层侧表面,形成有凹部。 ;7.如请求项6之附遮光层之复眼透镜片,其中前述凹部之深度为0.05 μm以上。 ;8.如请求项1之附遮光层之复眼透镜片,其中前述遮光层之厚度为0.5 μm以上2.0 μm以下。 ;9.如请求项1之附遮光层之复眼透镜片,其中前述遮光部之穿透率为2.0%以下。 ;10.如请求项1之附遮光层之复眼透镜片,其中前述遮光部之马氏硬度为30 N/mm 2 以上200 N/mm 2 以下。 ;11.如请求项1之附遮光层之复眼透镜片,其中前述复眼透镜之间距为35 μm以上150 μm以下。 ;12.如请求项1之附遮光层之复眼透镜片,其中前述复眼透镜包含复眼透镜及支持前述复眼透镜之膜状支持基材;前述支持基材之厚度为35 μm以上105 μm以下。 ;13.如请求项1之附遮光层之复眼透镜片,其中来自前述遮光层附加后之复眼透镜片之透镜侧之全光线穿透率为65%以上。 ;14.如请求项1之附遮光层之复眼透镜片,其中于前述遮光层,经由透明之黏着剂层而贴合有塑胶板;前述黏着剂层之厚度为20 μm以上125 μm以下,且100℃以上200℃以下之弹性率为1×10 4 以上1×10 5 Pa。 ;15.如请求项14之附遮光层之复眼透镜片,其中前述塑胶板具有光扩散功能。 ;16.一种穿透型萤幕,其特征在于包含:菲涅尔透镜片;及附遮光层之复眼透镜片;前述附遮光层之复眼透镜片包含:复眼透镜片,其系于一主面设置有复眼透镜;遮光层,其系设置于前述复眼透镜片之其他主面;及感光性黏着层,其系形成于前述复眼透镜片与前述遮光层之间,具有黏着/非黏着图案;前述遮光层包括:遮光部,其系形成于前述黏着图案上;及穿透部,其系形成于前述非黏着图案上,使穿透前述复眼透镜之光穿透;前述穿透部设置在对应于由前述复眼透镜所形成之聚光部之位置;前述遮光部含有碳粒子,并且前述碳粒子之含有量为45 wt%以上65 wt%以下;前述穿透部之形状为X形状或已调变之X形状。 ;17.如请求项16之穿透型萤幕,其中前述复眼透镜片包含复眼透镜及支持此复眼透镜之膜状支持基材;前述支持基材制膜时之流程方向系配向于萤幕之长边方向。 ;18.如请求项17之穿透型萤幕,其中前述支持基材制膜时之宽度方向之热收缩率为0.4%以下。 ;19.一种背面投影型图像显示装置,其特征在于包含:投影机;及穿透型萤幕,其系将从前述投影机投影之图像进行穿透显示;前述穿透型萤幕包含:菲涅尔透镜片;及附遮光层之复眼透镜片;前述附遮光层之复眼透镜片包含:复眼透镜片,其系于一主面设置有复眼透镜;遮光层,其系设置于前述复眼透镜片之其他主面;及感光性黏着层,其系形成于前述复眼透镜片与前述遮光层之间,具有黏着/非黏着图案;前述遮光层包括:遮光部,其系形成于前述黏着图案上;及穿透部,其系形成于前述非黏着图案上,使穿透前述复眼透镜之光穿透;前述穿透部设置在对应于由前述复眼透镜所形成之聚光部之位置;前述遮光部含有碳粒子,并且前述碳粒子之含有量为45 wt%以上65 wt%以下;前述穿透部之形状为X形状或已调变之X形状。 ;20.一种附遮光层之复眼透镜片之制造方法,其特征在于包含以下步骤:于一主面设有复眼透镜之复眼透镜片之其他主面上形成感光性黏着层之步骤;经由前述复眼透镜而对前述感光性黏着层照射紫外线,对前述感光性黏着层形成黏着/非黏着图案之步骤;及使于支持体之一主面,使设置含有碳粒子45 wt%以上65 wt%以下之黑色层而成之黑色转印膜接触前述感光性黏着层表面后剥离,藉此在对应于由前述复眼透镜所形成之聚光部之位置形成穿透部之步骤。 ;21.如请求项20之附遮光层之复眼透镜片之制造方法,其中包含:于前述感光性黏着层之非黏着图案,形成凹部之步骤。 ;22.如请求项20之附遮光层之复眼透镜片之制造方法,其中前述复眼透镜片系经过以下步骤而制造:原模制作步骤,其系于被加工物照射雷射光而制作原模;及薄片制作步骤,其系使用前述原模或根据该原模所制作之复制模具,形成复眼透镜;前述原模制作步骤包含:一面经由光罩之开口于前述被加工物上形成雷射光之光罩图像,一面使前述光罩图像往一方向移动之步骤。 ;23.如请求项22之附遮光层之复眼透镜片之制造方法,其中前述原模制作步骤包含:第一步骤,其系一面经由光罩之开口于前述被加工物上形成雷射光之光罩图像,一面使前述光罩图像往第一方向移动;及第二步骤,其系一面经由光罩之开口于前述被加工物上形成雷射光之光罩图像,一面使前述光罩图像往不同于前述第一方向之第二方向移动。 ;24.如请求项22之附遮光层之复眼透镜片之制造方法,其中前述被加工物具有圆筒状,一面于此圆筒状之被加工物之外周面或内周面上形成前述光罩图像,一面使前述光罩图像沿着前述圆筒状之被加工物之轴向移动。;图1系表示根据本发明之第一实施型态之背面投影型图像显示装置之一构成例之模式图。;图2A、B系表示根据本发明之第一实施型态之附遮光层之复眼透镜片之外观之立体图。;图3A、B系表示根据本发明之第一实施型态之附遮光层之复眼透镜片之平面图。;图4A~C系表示穿透部之形状例之模式图。;图5A~C系表示穿透部之形状例之模式图。;图6A~C系表示穿透部之形状例之模式图。;图7A~C系表示复眼透镜之一形状例之模式图。;图8A、B系表示穿透部之开口形状为直线形状及已调变之直线形状之遮光层之要部之样本照片。;图9系表示形成图6所示之穿透部形状之复眼透镜之一形状例之模式图。;图10A、B系表示原模之透镜成形面之模式图。;图11A、B系说明原模之透镜成形面之加工步骤中之雷射加工方法之模式图。;图12A、B系说明原模之透镜成形面之加工步骤中之雷射加工方法之模式图。;图13系表示雷射加工之原理之模式图。;图14A、B系表示雷射加工所用之光罩图像之一例之图。;图15A~C系表示雷射加工方法之变形例之模式图。;图16系表示图15所示之雷射加工方法所用之光罩之一例之模式图。;图17A~C系表示复眼透镜片之制作步骤之一例之模式图。;图18A~E系表示遮光层之制作步骤之一例之模式图。;图19系表示本发明之第二实施型态所说明之复眼透镜片之制作步骤之模式图。;图20系表示本发明之第三、第四实施型态所说明之背面投影型图像显示装置之一构成例之模式图。;图21系表示实施例1之穿透型萤幕之水平方向之扩散特性(亮度分布)之特性图。;图22系表示实施例1之穿透型萤幕之垂直方向之扩散特性(亮度分布)之特性图。;图23A~C系表示遮光层之观察结果之概略线图,A表示遮光部面积率92%,B表示遮光部面积率88%,C表示遮光部面积率80%。;图24系表示穿透部形状已调变之X形状之遮光层之样本照片之图。
地址 SONY CORPORATION 日本