发明名称 |
电激发光材料之精制方法、电激发光材料及电激发光元件;METHOD FOR REFINING ELECTROLUMINESCENCE MATERIAL, ELECTROLUMINESCENCE MATERIAL AND ELECTROLUMINESCENCE DEVICE |
摘要 |
本发明之目的是提供可以有效的去除钯之精制法以及使用该法之电激发光材料和电激发光元件。本发明是有关于一种电激发光材料之精制方法,藉由对含有作为杂质之钯的电激发光材料以含有磷之材料进行处理,以将钯去除。 |
申请公布号 |
TWI327160 |
申请公布日期 |
2010.07.11 |
申请号 |
TW093116081 |
申请日期 |
2004.06.04 |
申请人 |
日立化成工业股份有限公司 HITACHI CHEMICAL CO., LTD. 日本;麦克斯汀有限公司 MAXDEM INCORPORATED 美国 |
发明人 |
津田义博;森下芳伊;野村理行;田井诚司;星阳介;舟生重昭;摩塔美帝 法夏J;王 里昇 |
分类号 |
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主分类号 |
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代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
主权项 |
1.一种电激发光材料之精制方法,其特征在于包括下述步骤:藉由对含有作为杂质之钯的电激发光材料以含有磷之材料进行处理,以将钯去除,其中前述电激发光材料由选自聚芴型以及对苯基型的聚合单位所构成。 ;2.如申请专利范围第1项所述之电激发光材料之精制方法,其特征在于前述电激发光材料是使用钯触媒合成的。 ;3.如申请专利范围第1项或是第2项所述之电激发光材料之精制方法,其特征在于前述电激发光材料为聚合物或者寡聚物。 ;4.如申请专利范围第1项或是第2项所述之电激发光材料之精制方法,其特征在于前述电激发光材料为共轭聚合物或者寡聚物。 ;5.如申请专利范围第3项所述之电激发光材料之精制方法,其特征在于前述电激发光材料为共轭聚合物或者寡聚物。 ;6.一种电激发光材料,其特征在于藉由申请专利范围第1项至第5项之其中之一项所述之精制方法精制而成。 ;7.如申请专利范围第6项所述之电激发光材料,其特征在于其中钯浓度为100ppm以下。 ;8.一种电激发光元件,其特征在于使用申请专利范围第6项或是第7项所述之电激发光材料。 |
地址 |
HITACHI CHEMICAL CO., LTD. 日本 JP 1-1, NISHI-SHINJUKU 2-CHOME, SHINJUKU-KU, TOKYO JAPAN<name>麦克斯汀有限公司 MAXDEM INCORPORATED 美国 |