Verfahren zur Herstellung eines Flächengebildes, insbesondere einer Polsterelementauflage, ein solches Flächengebilde und ein Polsterelement

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Flächengebildes (10), insbesondere einer Polsterelementauflage oder eines Bezuges, mit einer ersten Lage (20) und einer zweiten Lage (50), wobei die Oberfläche einer Oberseite (21) und/oder einer Unterseite (22) der ersten Lage (20) derart profiliert wird, so dass Erhebungen (24) und Vertiefungen (26) und Dünnschichtbereiche (30) mit einer geringen Dicke (32) ausgebildet werden, und wobei die erste Lage (20) zumindest bereichsweise mit der zweiten Lage (50) stoffschlüssig verbunden wird. Ferner betrifft die Erfindung ein solches Flächengebilde (10), insbesodnere eine Polsterelementauflage oder ein Bezug, und ein Polsterelement (60) mit einem solchen Flächengebilde (10).