Metallisierungssystem eines Halbleiterbauelements mit zusätzlich verjüngten Übergangskontakten

摘要

In einem Metallisierungssystem eines Halbleiterbauelements wird eine Übergangskontaktdurchführung mit einem größeren Grade an Verjüngung vorgesehen, indem eine entsprechende Ätzsequenz modifiziert wird. Beispielsweise wird die Lackmaske zur Herstellung der Kontaktöffnung einmal oder mehrere Male erodiert, um damit die laterale Größe der entsprechenden Maskenöffnung zu vergrößern. Auf Grund des ausgeprägten Grades an Verjüngung werden bessere Abscheidebedingungen während des nachfolgenden elektrochemischen Abscheideprozesses zum gemeinsamen Füllen der Kontaktöffnung und eines breiten damit verbundenen Grabens geschaffen.