发明名称 EPITAXIAL SILICON WAFER, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
摘要
申请公布号 JP2010153631(A) 申请公布日期 2010.07.08
申请号 JP20080330749 申请日期 2008.12.25
申请人 SUMCO TECHXIV CORP 发明人 KAWASHIMA TADASHI;YOSHIKAWA MASAHIRO
分类号 H01L21/20;C23C16/24;C30B25/20;C30B29/06;H01L21/205;H01L21/324 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
地址