| 发明名称 | 主动元件阵列基板及其制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明是关于一种主动元件阵列基板及其制作方法，主动元件阵列基板包括基材及至少一图案化多层金属层。图案化多层金属层配置于基材上，其中图案化多层金属层至少包括铜层。图案化多层金属层是以蚀刻液蚀刻而成，蚀刻液包括氧化剂、酸碱值调整剂与金属离子螯合剂。图案化多层金属层在垂直基材的剖面是梯形，且梯形的底角小于60°。 | ||
| 申请公布号 | CN101771072A | 申请公布日期 | 2010.07.07 |
| 申请号 | CN201010118239.0 | 申请日期 | 2010.02.23 |
| 申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 陈柏林;林瑜旻;林致远;陈惠军;林俊男;蔡文庆 |
| 分类号 | H01L27/32(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L23/528(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 任默闻 |
| 主权项 | 一种主动元件阵列基板，其特征在于，所述的主动元件阵列基板包括：一基材；以及至少一图案化多层金属层配置于所述的基材上，其中所述的图案化多层金属层至少包括一铜层，所述的图案化多层金属层是以一蚀刻液蚀刻而成，所述的蚀刻液包括氧化剂、酸碱值调整剂与金属离子螯合剂，且所述的图案化多层金属层在垂直所述的基材的一剖面是一梯形，所述的梯形的底角小于60°。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹市 | ||