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发明名称 HIGH-PURITY HAFNIUM, TARGET AND THIN FILM COMPRISING HIGH-PURITY HAFNIUM, AND PROCESS FOR PRODUCING HIGH-PURITY HAFNIUM
摘要
申请公布号 KR100968396(B1) 申请公布日期 2010.07.07
申请号 KR20087000215 申请日期 2006.06.12
申请人 发明人
分类号 C23C14/34;B22D27/02;C22B9/22;C22C38/00 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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