| 发明名称 | 小孔径核孔滤膜及其生产方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种小孔径核孔滤膜及其生产方法，用于解决现有的生产工艺不能生产出孔径介于φ0.03～φ2μm之间的柱状核孔滤膜的问题。该方法包括以下步骤：以高能硫离子辐照薄膜，形成柱状损伤区；在氧气浓度不低于2/5的含氧的环境下，将上述离子辐照后的薄膜紫外辐照1～2小时；将紫外辐照后的薄膜在通风环境下陈化1～2月；将陈化后的薄膜放入带超声波装置的碱性蚀刻槽蚀刻，蚀刻时持续以超声波振荡碱性蚀刻液，蚀刻后制得孔径为φ0.03～φ2μm的柱状核孔滤膜。而且该方法简单，成本低，可以大量普及并实现产业化。 | ||
| 申请公布号 | CN101766959A | 申请公布日期 | 2010.07.07 |
| 申请号 | CN200910259469.6 | 申请日期 | 2009.12.22 |
| 申请人 | 武汉智迅创源科技发展有限公司 | 发明人 | 罗勇;吴其玉;杨建利 |
| 分类号 | B01D69/00(2006.01)I;B01D71/48(2006.01)I | 主分类号 | B01D69/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中伟智信专利商标代理事务所 11325 | 代理人 | 张岱 |
| 主权项 | 一种小孔径核孔滤膜的生产方法，其特征在于，包括以下步骤：以高能硫离子辐照薄膜，形成柱状损伤区；在氧气浓度不低于2/5的含氧的环境下，将上述离子辐照后的薄膜紫外辐照1～2小时；将紫外辐照后的薄膜在通风环境下陈化1～2月；将陈化后的薄膜放入带超声波装置的碱性蚀刻槽蚀刻，蚀刻时持续以超声波振荡碱性蚀刻液，蚀刻后制得孔径为φ0.03～φ2μm的柱状核孔滤膜。 | ||
| 地址 | 430040湖北省武汉市东西湖区金银湖环湖中路18号 | ||