发明名称 一种源极为肖特基结的隧穿晶体管结构及其制造方法
摘要 本发明属于半导体器件技术领域,具体公开了一种源极为肖特基结的隧穿晶体管(TFET)结构及其制备方法,该隧穿晶体管采用源极为肖特基结的U形沟道结构,其驱动电流得到提高的同时漏电流也得到了减小;同时,该隧穿晶体管利用自对准金属硅化物工艺形成晶体管的栅极、源极和漏极,工艺过程简单,成本低廉,器件的性能得到了很大提升;而且,使用不同的肖特基结做为U形沟道的N型隧穿晶体管(NTFET)和P型隧穿晶体管(PTFET)的源极,可以制成类似CMOS结构的互补隧穿晶体管(CTFET)。
申请公布号 CN101771079A 申请公布日期 2010.07.07
申请号 CN200910247546.6 申请日期 2009.12.30
申请人 复旦大学 发明人 王鹏飞;吴东平;张卫
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L29/47(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L27/092(2006.01)I;H01L27/088(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人 陆飞;盛志范
主权项 一种隧穿晶体管结构,其特征在于,该隧穿晶体管包括至少一个半导体衬底、一个源极、一个漏极和一个栅极;并采用U形沟道结构;其中,所述的源极采用肖特基结。
地址 200433 上海市邯郸路220号
您可能感兴趣的专利