发明名称 |
一种源极为肖特基结的隧穿晶体管结构及其制造方法 |
摘要 |
本发明属于半导体器件技术领域,具体公开了一种源极为肖特基结的隧穿晶体管(TFET)结构及其制备方法,该隧穿晶体管采用源极为肖特基结的U形沟道结构,其驱动电流得到提高的同时漏电流也得到了减小;同时,该隧穿晶体管利用自对准金属硅化物工艺形成晶体管的栅极、源极和漏极,工艺过程简单,成本低廉,器件的性能得到了很大提升;而且,使用不同的肖特基结做为U形沟道的N型隧穿晶体管(NTFET)和P型隧穿晶体管(PTFET)的源极,可以制成类似CMOS结构的互补隧穿晶体管(CTFET)。 |
申请公布号 |
CN101771079A |
申请公布日期 |
2010.07.07 |
申请号 |
CN200910247546.6 |
申请日期 |
2009.12.30 |
申请人 |
复旦大学 |
发明人 |
王鹏飞;吴东平;张卫 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/47(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L27/092(2006.01)I;H01L27/088(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
上海正旦专利代理有限公司 31200 |
代理人 |
陆飞;盛志范 |
主权项 |
一种隧穿晶体管结构,其特征在于,该隧穿晶体管包括至少一个半导体衬底、一个源极、一个漏极和一个栅极;并采用U形沟道结构;其中,所述的源极采用肖特基结。 |
地址 |
200433 上海市邯郸路220号 |