发明名称 电子束照射装置
摘要 本实用新型提供一种电子束照射装置,具有:三角波电源、由前述三角波电源的三角波电流励磁,扫描电子束的扫描线圈、方形波电源、及由前述方形波电源的方形波电流励磁;对前述扫描的扫描方向垂直相交的方向上使电子束偏向的偏向线圈,通过前述扫描线圈和偏向线圈使前述电子束扫描轨道为矩形;其特征在于,前述三角波电流的扫描方向的往路或复路的任一个扫描中,前述方形波电源的方形波电流中,反转往路或复路的任一个扫描中的方形波电流的波形。通过将电子束轨道矩形扫描、偏向时,可使其扫描方向折返点的电子束分布均匀化,由此可减轻窗箔的局部恶化。
申请公布号 CN201522861U 申请公布日期 2010.07.07
申请号 CN200920166662.0 申请日期 2009.07.06
申请人 日新高电压工程公司 发明人 水谷睦
分类号 G21K5/10(2006.01)I;G21K5/04(2006.01)I 主分类号 G21K5/10(2006.01)I
代理机构 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人 曾旻辉
主权项 一种电子束照射装置,具有:三角波电源、由前述三角波电源的三角波电流励磁,扫描电子束的扫描线圈、方形波电源、及由前述方形波电源的方形波电流励磁;对前述扫描的扫描方向垂直相交的方向上使电子束偏向的偏向线圈,通过前述扫描线圈和偏向线圈使前述电子束扫描轨道为矩形;其特征在于,前述三角波电流的扫描方向的往路或复路的任一个扫描中,前述方形波电源的方形波电流中,反转往路或复路的任一个扫描中的方形波电流的波形。
地址 日本京都府京都市右京区梅津高亩町47番地