发明名称 展示/指示牌之改良结构
摘要 一种展示/指示牌之改良结构,其主要系于一导光展示片之至少一侧表面设有由凹刻图文所形成之展示部,一由复数光源体组成之发光元件系设置于该导光展示片外周侧,一外框系套合该导光展示片与发光元件外周侧,且另以一背板设置于该导光展示片具有展示部之一侧,利用该发光元件于导光展示片周侧产生一均匀之背光光线,且该光线得以于展示部之位置形成前、后折射,藉以产生完整而明亮之图文显示效果,而该背板可依需要而具有反射至少部份光线之特性,以于该展示部背侧形成至少二重之复影图文显示效果。
申请公布号 TWM383796 申请公布日期 2010.07.01
申请号 TW098218960 申请日期 2009.10.14
申请人 邱皇璁 台北市万华区西藏路231号 发明人 邱皇璁
分类号 主分类号
代理机构 代理人 陈恕琮 台北市中山区林森北路575号11楼之3
主权项 1.一种展示/指示牌之改良结构,其至少包括:一导光展示片,至少一侧表面设有由凹刻图文所形成之展示部;一外框,系为一体成型之结构,以包覆于该导光展示片外周侧;一发光元件,系设置于该导光展示片外周侧与外框之间,以产生一均匀之背光光线投射于该导光展示片内,使该光线得以于展示部之位置向前后折射,以形成完整而明亮之图文显示效果。 ;2.如申请专利范围第1项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该外框于内周缘设有一内环凸缘,以供挡止于导光展示片周侧。 ;3.如申请专利范围第1或2项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该导光展示片于具有展示部之一侧另设有一背板。 ;4.如申请专利范围第3项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该背板具有反射至少部份光线之特性。 ;5.如申请专利范围第3项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该导光展示片与背板之间形成有一间距。 ;6.如申请专利范围第4项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该导光展示片与背板之间形成有一间距。 ;7.如申请专利范围第5项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该间距系由设置于导光展示片与背板之间的至少一肋条所支撑行成。 ;8.如申请专利范围第6项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该间距系由设置于导光展示片与背板之间的至少一肋条所支撑行成。 ;9.如申请专利范围第7项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该肋条系结合于该导光展示片之周边。 ;10.如申请专利范围第8项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该肋条系结合于该导光展示片之周边。 ;11.如申请专利范围第1或2项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该发光元件系由复数光源体组成,且该复数光源体系均匀分布于导光展示片外周侧。 ;12.如申请专利范围第3项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该发光元件系由复数光源体组成,且该复数光源体系均匀分布于导光展示片外周侧。 ;13.如申请专利范围第4项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该发光元件系由复数光源体组成,且该复数光源体系均匀分布于导光展示片外周侧。 ;14.如申请专利范围第5项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该发光元件系由复数光源体组成,且该复数光源体系均匀分布于导光展示片外周侧。 ;15.如申请专利范围第6项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该发光元件系由复数光源体组成,且该复数光源体系均匀分布于导光展示片外周侧。 ;16.如申请专利范围第7项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该发光元件系由复数光源体组成,且该复数光源体系均匀分布于导光展示片外周侧。 ;17.如申请专利范围第8项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该发光元件系由复数光源体组成,且该复数光源体系均匀分布于导光展示片外周侧。 ;18.如申请专利范围第9项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该发光元件系由复数光源体组成,且该复数光源体系均匀分布于导光展示片外周侧。 ;19.如申请专利范围第10项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该发光元件系由复数光源体组成,且该复数光源体系均匀分布于导光展示片外周侧。 ;20.如申请专利范围第1或2项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该展示部之凹刻图文具有由二旁侧向中间倾斜之斜导光面所组成之锥形断面凹陷结构。 ;21.如申请专利范围第3项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该展示部之凹刻图文具有由二旁侧向中间倾斜之斜导光面所组成之锥形断面凹陷结构。 ;22.如申请专利范围第4项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该展示部之凹刻图文具有由二旁侧向中间倾斜之斜导光面所组成之锥形断面凹陷结构。 ;23.如申请专利范围第5项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该展示部之凹刻图文具有由二旁侧向中间倾斜之斜导光面所组成之锥形断面凹陷结构。 ;24.如申请专利范围第6项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该展示部之凹刻图文具有由二旁侧向中间倾斜之斜导光面所组成之锥形断面凹陷结构。 ;25.如申请专利范围第7项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该展示部之凹刻图文具有由二旁侧向中间倾斜之斜导光面所组成之锥形断面凹陷结构。 ;26.如申请专利范围第8项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该展示部之凹刻图文具有由二旁侧向中间倾斜之斜导光面所组成之锥形断面凹陷结构。 ;27.如申请专利范围第11项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该展示部之凹刻图文具有由二旁侧向中间倾斜之斜导光面所组成之锥形断面凹陷结构。 ;28.如申请专利范围第12项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该展示部之凹刻图文具有由二旁侧向中间倾斜之斜导光面所组成之锥形断面凹陷结构。 ;29.如申请专利范围第13项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该展示部之凹刻图文具有由二旁侧向中间倾斜之斜导光面所组成之锥形断面凹陷结构。 ;30.如申请专利范围第15项所述之展示/指示牌之改良结构,其中该展示部之凹刻图文具有由二旁侧向中间倾斜之斜导光面所组成之锥形断面凹陷结构。;第1图系本创作第一实施例之构造分解图。;第2图系本创作第一实施例之组合示意图。;第3图系本创作第一实施例之组合剖面图。;第4图系本创作第一实施例之应用情形示意图。;第5图系本创作第二实施例之组合示意图。
地址 台北市万华区西藏路231号
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