真空处理设备之真空室及真空室分割方法;VACUUM CHAMBER FOR VACUUM PROCESSING APPARATUS AND VACUUM CHAMBER DIVIDING METHOD

摘要

即使在真空室已经安装完成之后，仍可根据使用者的需要，改变真空室的形状与尺寸。;真空室1的结构能自由地分割成一矩形室主体(chamber main body)2；三角形侧框架3a，3b，可拆卸地藉由螺栓紧密连结至室主体之两侧上；顶板5，8，系连结到室主体2的个别顶面及各具有一开口的侧框架3a，3b上；及底板7与9，系连接到室主体2的个别底面及具有一开口的侧框架3a，3b上。因此，可以根据使用者的要求而轻易改变真空室的形状与尺寸。

主权项

1.一种真空室，其特征在于：该真空室可被分割成一室主体(chamber main body)及一侧面框架(side face frame)，其中一基板运送装置被设置在该室主体内；其中该侧面框架系利用螺栓及夹设于该侧面框架与该室主体之间的O形环而被接合至该室主体的开口上；而且，该侧面框架在与该室主体之开口连接的地方以外的地方设有比该开口还要小的开口部。 ;2.如申请专利范围第1项之真空室，其中该真空室具有至少一盖。 ;3.如申请专利范围第1项之真空室，其中该基板运送装置被设置在该室主体的一实质中心点处。 ;4.如申请专利范围第2项之真空室，其中该基板运送装置被设置在该室主体的一实质中心点处。 ;5.如申请专利范围第1至4项中任一项之真空室，其中该螺栓系从该室主体侧插通到该侧面框架侧并进行固定。 ;6.如申请专利范围第1至4项中任一项之真空室，其中该侧面框架被分割成复数个。 ;7.一种真空室分割方法，其特征在于：该真空室是由室主体(chamber main body)及侧面框架(side face frame)所构成，其中该室主体具有设置了基板运送装置的开口，该侧面框架连接到该开口且在与该室主体相连接以外的地方具有比该开口还要小的开口部；以使用螺栓及夹设于该侧面框架与该室主体之间的O形环将该侧面框架接合至该室主体的开口上的方式来分割该真空室。;图1是一立体图，显示本发明第一实施例的真空室；图2是一概略立体图，显示本发明第一实施例的真空室；图3显示本发明第二实施例的真空室之制造程序；图4显示本发明第三实施例的真空室之制造程序；图5显示本发明第四实施例的真空室之形状；图6显示本发明第五实施例的真空室之形状；图7显示本发明第六实施例的真空室之形状；图8是一概略平面图，显示习知范例中的多室真空处理设备；图9是一概略平面图，显示习知范例中的多室真空处理设备。