发明名称 利用于输送系统中之定位结构
摘要 一种于生产线上,用于输送系统中,定位输送带之定位结构。输送带系绕设于定位结构之滚轴中段,定位结构之磁性物质吸附设置于滚轴上之左、右端以定位输送带,藉此磁性物质可拔取、再吸附的特性,可以调整输送带于滚轴上之位置,或配合以更换不同大小、数量之输送带。
申请公布号 TWI326673 申请公布日期 2010.07.01
申请号 TW096100497 申请日期 2007.01.05
申请人 英华达股份有限公司 INVENTEC APPLIANCES CORP. 台北县五股工业区五工五路37号 发明人 李光裕
分类号 主分类号
代理机构 代理人 李长铭 台北县新店市北新路3段205之1号3楼
主权项 1.一种用于一输送系统中之定位结构,该输送系统系包含一输送带,该定位结构系包含:一滚轴,该输送带系绕设于该滚轴之中段,且该滚轮之表面系部份具有一绝缘区域;以及至少一电磁铁装置,该电磁铁装置系吸附设置于该滚轴上,并于该输送带外侧之滚轴一端,该电磁铁装置系包含:一第一导线与一第二导线,该第一导线与该第二导线系以互相不电性连接之方式分布设置于该绝缘区域;以及一电磁挡块,该电磁挡块包含一金属挡块以及缠绕于该金属挡块之线圈,该线圈之第一端接点以及第二端接点系露出于该电磁挡块;其中,当该电磁挡块附着于该滚轴时,该第一端接点系接触该第一导线,该第二端接点系接触该第二导线,对该第一导线以及该第二导线导入电流,以使该电磁挡块产生磁性吸附于该滚轴。 ;2.如申请专利范围第1项所述之定位结构,其中该第一导线延伸至该滚轴之一末端,于该末端之外表面沿该滚轴之滚动方向延伸一第一圈环,该第二导线透过一通透孔延伸至该滚轴之内表面,并沿该滚轴之滚动方向延伸一第二圈环。 ;3.如申请专利范围第2项所述之定位结构,其中该第一圈环以及该第二圈环系分别与该滚轴外部之电源接触以电性连接。;图一 系习知技术定位输送带之示意图;图二 系本发明定位结构之第一具体实施例之示意图;图三 系本发明定位结构第二实施例之示意图;图四 系本发明第二实施例导线部分之示意图;以及图五 系本发明定位结构所应用输送系统之实施例。
地址 INVENTEC APPLIANCES CORP. 台北县五股工业区五工五路37号