ITO conducting layer, method for deposition thereof and apparatus for depositing the same,申请号KR20080006274-传众专利搜索

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发明名称	ITO conducting layer, method for deposition thereof and apparatus for depositing the same
摘要
申请公布号	KR100967413(B1)	申请公布日期	2010.07.01
申请号	KR20080006274	申请日期	2008.01.21
申请人		发明人
分类号	C23C14/24;C23C14/08	主分类号	C23C14/24
代理机构		代理人
主权项
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