一种流动层析结晶法制备高纯磷酸的方法

摘要

一种流动层析结晶法制备高纯磷酸的方法涉及高纯磷酸制备技术，尤其是用工业磷酸制取高纯磷酸的生产方法，本发明包括以下步骤：(1)用于结晶的原料磷酸经0.1-0.5μm的膜过滤后备用；(2)在结晶器中充满磷酸，保持磷酸温度为12-20℃，将磷酸晶种加入结晶器中静置1-20min，或用频率20-40KHz的外加声场作用于静置磷酸10-30min；(3)在磷酸恒温槽中使磷酸温度保持在12-20℃，用泵打入结晶器开始循环，在-15～2℃的结晶温度下让晶层生长1-2小时，将原料磷酸从结晶器中放出；(4)在0-25℃的结晶器温度下让磷酸晶层熔化蒸馏，蒸馏液排出量为晶层质量的40-50％；(5)用雾状超纯水清洗晶层表面；(6)在35-55℃的条件下融化清洗后的磷酸晶层，用超纯水稀释后得到高纯磷酸产品。通过本发明所述方法获得的高纯磷酸产品，可满足芯片湿法清洗和湿法蚀刻、晶圆硅片表面清洗、光纤玻璃生产等领域使用。

主权项

一种流动层析结晶法制备高纯磷酸的方法，包括以下步骤：(1)用于结晶的原料磷酸经0.1-0.5μm的膜过滤后备用；(2)在结晶器中充满磷酸，保持磷酸温度为12-20℃，将磷酸晶种加入结晶器中静置1-20min，或用频率20-40KHz的外加声场作用于静置磷酸10-30min；(3)在磷酸恒温槽中使磷酸温度保持在12-20℃，用泵打入结晶器开始循环，在-15--2℃的结晶温度下让晶层生长1-2小时，将原料磷酸从结晶器中放出；(4)在0-25℃的结晶器温度下让磷酸晶层熔化蒸馏，蒸馏液排出量为晶层质量的40-50％；(5)用雾状超纯水清洗晶层表面；(6)在35-55℃的条件下融化清洗后的磷酸晶层，用超纯水稀释后得到高纯磷酸产品。