发明名称 1.5T SONOS快速闪存存储器单元结构
摘要 本发明公开了一种1.5T SONOS快速闪存存储器单元结构,该存储器单元由一个SONOS晶体管和一个闪存单元选择场管构成,其中SONOS晶体管和闪存单元选择场管共用一个门栅极,该门栅极为存储单元的字线端,位于该门栅极左边的N型源漏注入区域为存储单元的位线端,位于该门栅极右边的N型源漏注入区域为源线端,SONOS晶体管为ONO介质层栅氧结构,闪存单元选择场管为氧化物介质层栅氧结构。本发明简化了存储器单元结构并减小了存储器单元面积,能大幅的节约芯片的面积,节省制造成本。
申请公布号 CN101764132A 申请公布日期 2010.06.30
申请号 CN200810044175.7 申请日期 2008.12.24
申请人 上海华虹NEC电子有限公司 发明人 陈广龙;杨斌
分类号 H01L27/115(2006.01)I 主分类号 H01L27/115(2006.01)I
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人 顾继光
主权项 一种1.5T SONOS快速闪存存储器单元结构,其特征在于,该存储器单元由一个SONOS晶体管和一个闪存单元选择场管构成,其中SONOS晶体管和闪存单元选择场管共用一个门栅极,该门栅极为存储单元的字线端,位于该门栅极左边的N型源漏注入区域为存储单元的位线端,位于该门栅极右边的N型源漏注入区域为源线端,SONOS晶体管为ONO介质层栅氧结构,闪存单元选择场管为氧化物介质层栅氧结构。
地址 201206 上海市浦东新区川桥路1188号