流体抽取系统、光刻设备和器件制造方法

摘要

本发明公开了一种流体处理系统、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述光刻设备典型地包括流体处理系统。流体处理系统通常包括两相流体抽取系统，其被配置以从给定的位置移除气体和液体的混合物。因为抽取流体包括两相，所以可以改变抽取系统中的压力。这种压力变化可以穿过浸没液体并且导致曝光的错误。为了减小抽取系统中的压力波动，可以使用缓冲腔。这种缓冲腔可以连接至流体抽取系统，以便提供减小压力波动的气体体积体。可替代地或另外地，可以在流体抽取系统中的一些位置上提供柔性壁。柔性壁可以响应于流体抽取系统中的压力变化来改变形状。通过改变形状，柔性壁可以帮助减小或消除压力波动。

主权项

一种用以抽取光刻设备中的两相流体的流体抽取系统，所述流体抽取系统包括：抽取通道，其用于使两相流体流从其中通过；和缓冲腔，其包括气体体积体，所述缓冲腔与所述抽取通道流体连接，其中，所述流体抽取系统被配置成使得基本上防止液体进入所述缓冲腔中。