| 发明名称 | 微光刻投射曝光设备的照明系统 | ||
| 摘要 | 微光刻投射曝光设备(10)的照明系统包括光束偏转阵列(46)，光束偏转阵列(46)包括大量的例如镜(Mij)的光束偏转单元。每一光束偏转元件(Mij)适于将打入光束偏转一响应于控制信号可变的偏转角。从光束偏转元件反射的光束在系统光瞳表面(70)中产生点。将掩模成像到光敏表面的曝光工艺期间，在系统光瞳表面(70)中被照明的点的数量大于光束偏转元件(Mij)的数量。这可以借助于将从光束偏转元件(Mij)反射的光束多路化的光束多路器单元(57)来实现。在另一实施例中，控制光束偏转元件(Mij)以使在系统光瞳表面(70)中产生的辐照分布在曝光工艺的两个连续光脉冲之间变化。 | ||
| 申请公布号 | CN101762987A | 申请公布日期 | 2010.06.30 |
| 申请号 | CN200910262203.7 | 申请日期 | 2009.12.22 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT股份公司 | 发明人 | 达米安·菲奥尔卡;拉尔夫·米勒;安德拉斯·梅杰 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包括：a)反射或透射的光束偏转元件(Mij)的光束偏转阵列(46)，其中每一光束偏转元件(Mij)适于将打入光束偏转一偏转角，b)系统光瞳表面(70)，c)布置在光束偏转阵列(46)与系统光瞳表面之间的光束多路器单元(57)，以使系统光瞳表面(70)中的光束(96T、96R；98T，98R；96TT，96TR、96RT，96RR；98T，98R，99T，99R)的数量比出自光束偏转阵列的光束(96、98、99)的数量大。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||