发明名称 |
半导体性碳纳米管薄膜的制备方法 |
摘要 |
本发明揭示了一种半导体性碳纳米管薄膜的制备方法,属于纳米材料制备领域,其特征在于:在分散的单壁碳纳米管溶液中,加入与半导体性碳纳米管选择性吸附的介质,并在介质表面形成半导体性碳纳米管富集层,最后以酸化消除介质的方式分离、提纯单壁碳纳米管溶液中的半导体性碳纳米管薄膜。利用本发明方法制备纯的半导体性碳纳米管薄膜,无需任何特殊装置和繁杂工序,制备过程简便、实用,而且低成本,有利于实现大面积碳纳米管薄膜的制备,促进半导体性碳纳米管薄膜在诸多领域的应用。 |
申请公布号 |
CN101759177A |
申请公布日期 |
2010.06.30 |
申请号 |
CN201010017136.5 |
申请日期 |
2010.01.08 |
申请人 |
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
发明人 |
李红波;金赫华;陈艳芳;李清文 |
分类号 |
C01B31/02(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I |
主分类号 |
C01B31/02(2006.01)I |
代理机构 |
南京苏科专利代理有限责任公司 32102 |
代理人 |
陈忠辉 |
主权项 |
半导体性碳纳米管薄膜的制备方法,其特征在于:在分散的碳纳米管溶液中,加入与半导体性碳纳米管选择性吸附的介质,并在介质表面形成半导体性碳纳米管富集层,最后分离、提纯碳纳米管溶液中的半导体性碳纳米管薄膜。 |
地址 |
215125 江苏省苏州市工业园区若水路398号 |