发明名称 | 一种双液型酸性蚀刻液氧化剂 | ||
摘要 | 本发明涉及一种用于各式氯化铜蚀刻系统的双液型酸性蚀刻液氧化剂。各组分及含量为:氯酸钠35%~37%,氯化钠6%~8%,添加剂0.15%~0.25%,水55%~58%。本发明溶铜量高,侧蚀小,使用过程无沉淀产生,稳定性高。 | ||
申请公布号 | CN101760199A | 申请公布日期 | 2010.06.30 |
申请号 | CN200910193747.2 | 申请日期 | 2009.11.09 |
申请人 | 广东奥美特集团有限公司 | 发明人 | 林春涛 |
分类号 | C09K13/00(2006.01)I;C23F1/18(2006.01)I | 主分类号 | C09K13/00(2006.01)I |
代理机构 | 东莞市中正知识产权事务所 44231 | 代理人 | 张汉青 |
主权项 | 一种双液型酸性蚀刻液氧化剂,其特征是各组分及含量为:氯酸钠 35%~37%,氯化钠 6%~8%,添加剂 0.15%~0.25%,水 55%~58%,所有百分数为重量百分数。 | ||
地址 | 516101 广东省惠州市江北云山西路双子星国际商务大厦B栋19楼 |