| 发明名称 | 用于相变材料的化学-机械抛光的组合物及方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种适于抛光含有相变材料(PCM)例如锗-锑-碲(GST)合金的基材的化学-机械抛光(CMP)组合物。该组合物包含颗粒研磨材料、以及赖氨酸、任选的氧化剂、和为此的含水载体。本发明还公开了利用该组合物来抛光含有相变材料的基材的CMP方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101765647A | 申请公布日期 | 2010.06.30 |
| 申请号 | CN200880100535.9 | 申请日期 | 2008.07.24 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 陈湛;罗凯;罗伯特·瓦卡西 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I;H01L21/302(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I;B24B37/00(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 一种用于抛光含有相变材料的基材的化学-机械抛光(CMP)组合物，该组合物包含：(a)颗粒研磨材料；(b)赖氨酸；以及(c)为此的含水载体。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||