发明名称 电子照相感光构件、处理盒及电子照相设备
摘要 提供电子照相感光构件以及具有所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备,所述电子照相感光构件当长时间使用时抑制回收的调色剂从其端部区域泄漏,并且其耐久性优良。所述电子照相感光构件在其表面层的至少两端部中具有独立的凹陷部以每100微米见方的方形中为10个的密度形成的区域。这些凹陷部独立形成以致表示凹陷部的最深部与开口面间距离的平均深度Rdv-A为0.3μm至4.0μm,以致平均短轴径Lpc-A为2.0μm至10.0μm,以致平均长轴径Rpc-A在平均短轴径Lpc-A的两倍至50μm的范围内,以致朝向电子照相感光构件的方向,在电子照相感光构件周向与凹陷部长轴之间形成的角θ满足90°<θ<180°。
申请公布号 CN101765812A 申请公布日期 2010.06.30
申请号 CN200880100209.8 申请日期 2008.07.24
申请人 佳能株式会社 发明人 田边干;齐藤善久;小川英纪;雨宫昇司;池末龙哉;满居隆浩;大城真弓;滝泽久美子
分类号 G03G5/147(2006.01)I;G03G5/00(2006.01)I;G03G5/043(2006.01)I;G03G5/047(2006.01)I;G03G9/08(2006.01)I;G03G21/00(2006.01)I 主分类号 G03G5/147(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所 11277 代理人 刘新宇;李茂家
主权项 一种电子照相感光构件,其包括支承体和形成在所述支承体上的感光层,其中所述电子照相感光构件表面层的至少两端部的每一端部具有这样的区域,在该区域中,彼此独立的凹陷部以每100微米见方的方形中为10个以上的密度形成;当表示各所述凹陷部的最深部与开口之间距离的平均深度由Rdv-A表示,所述凹陷部的平均短轴径由Lpc-A表示,以及所述凹陷部的平均长轴径由Rpc-A表示时,所述平均深度Rdv-A落入0.3μm以上至4.0μm以下的范围内,所述平均短轴径Lpc-A落入2.0μm以上至10.0μm以下的范围内,以及所述平均长轴径Rpc-A为所述平均短轴径Lpc-A的两倍以上至50μm以下;和当在所述电子照相感光构件的周向与各所述凹陷部的长轴之间形成的角由θ表示时,在所述电子照相感光构件的两端部形成所述凹陷部,以致朝向所述电子照相感光构件的中央,所述角θ满足关系90°<θ<180°。
地址 日本东京都