| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有一种或多种含颜料亲和基团的星型聚合物、研磨颗粒和水。本发明的抛光液可以显著降低多晶硅的去除速率，降低多晶硅与二氧化硅的选择比，显著提高多晶硅的平坦化效率。 | ||
| 申请公布号 | CN101747842A | 申请公布日期 | 2010.06.23 |
| 申请号 | CN200810207470.X | 申请日期 | 2008.12.19 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 荆建芬;蔡鑫元;杨春晓 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;H01L21/3105(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I;H01L21/321(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，其含有一种或多种含颜料亲和基团的星型聚合物、研磨颗粒和水。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||