发明名称 |
用在高密度CMOS SRAM中的叠置存储单元 |
摘要 |
提供了一种用在高密度静态随机存取存储器中的叠置存储单元,该叠置存储单元包括:形成在第一层中的第一和第二下拉晶体管;通过晶体管,连接在第二下拉晶体管的栅极与位线之间,并且形成在第一层中;以及形成在位于第一层之上的第二层中的第一和第二上拉晶体管,其中第一和第二上拉晶体管分别与第一和第二下拉晶体管相连,以形成反相锁存器。采用具有单个通过晶体管的叠置存储单元结构,相比于常规六晶体管单元,减小了单元尺寸,并且可以改善通过晶体管的驱动性能。 |
申请公布号 |
CN1992283B |
申请公布日期 |
2010.06.23 |
申请号 |
CN200610173262.3 |
申请日期 |
2006.12.15 |
申请人 |
三星电子株式会社 |
发明人 |
梁香子;赵郁来 |
分类号 |
H01L27/11(2006.01)I;H01L23/522(2006.01)I;G11C11/412(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/11(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王新华 |
主权项 |
一种叠置存储单元,用在高密度静态随机存取存储器中,所述叠置存储单元包括:第一下拉晶体管和第二下拉晶体管,都形成在第一层中;第一上拉晶体管和第二上拉晶体管,都形成在位于第一层之上的第二层中,其中第一和第二上拉晶体管分别与第一和第二下拉晶体管相连,以形成反相锁存器;以及通过晶体管,连接在第二下拉晶体管的栅极与位线之间,并且形成在位于第一层或第二层之上的第三层中。 |
地址 |
韩国京畿道 |